Tofauti kati ya mipako ya uvukizi na mipako ya sputtering

Kama tunavyojua sote, uvukizi wa utupu na unyunyizaji wa ioni hutumiwa kwa kawaida katika mipako ya utupu.Kuna tofauti gani kati ya mipako ya uvukizi na mipako ya sputtering?Kisha, wataalam wa kiufundi kutoka RSM watatushiriki.

Mipako ya uvukizi wa utupu ni kupasha joto nyenzo zinazovukizwa kwa joto fulani kwa njia ya joto la upinzani au boriti ya elektroni na bombardment ya laser katika mazingira yenye kiwango cha utupu cha si chini ya 10-2Pa, ili nishati ya vibration ya mafuta ya molekuli au. atomi kwenye nyenzo huzidi nishati inayofunga ya uso, ili idadi kubwa ya molekuli au atomi kuyeyuka au kusalimika, na kushuka moja kwa moja kwenye substrate kuunda filamu.Mipako ya ioni ya kunyunyiza hutumia mwendo wa kasi wa juu wa ayoni chanya inayotokana na umwagaji wa gesi chini ya utendakazi wa uwanja wa umeme kushambulia shabaha kama cathode, ili atomi au molekuli kwenye sehemu inayolengwa zitoroke na kuingia kwenye uso wa kifaa cha kufanyia kazi kilichobanwa kuunda. filamu inayohitajika.

Njia inayotumiwa zaidi ya mipako ya uvukizi wa utupu ni kupokanzwa kwa upinzani, ambayo ina faida za muundo rahisi, gharama nafuu na uendeshaji rahisi;Ubaya ni kwamba haifai kwa metali za kinzani na vifaa vya dielectric sugu kwa joto la juu.Inapokanzwa boriti ya elektroni na inapokanzwa laser inaweza kushinda mapungufu ya kupokanzwa upinzani.Katika inapokanzwa kwa boriti ya elektroni, boriti ya elektroni inayozingatia hutumiwa kupasha joto moja kwa moja nyenzo zilizopigwa, na nishati ya kinetic ya boriti ya elektroni inakuwa nishati ya joto, ambayo hufanya nyenzo kuyeyuka.Kupasha joto kwa laser hutumia leza ya nguvu ya juu kama chanzo cha joto, lakini kutokana na gharama ya juu ya leza yenye nguvu ya juu, inaweza tu kutumika katika maabara chache za utafiti kwa sasa.

Teknolojia ya kunyunyiza ni tofauti na teknolojia ya uvukizi wa utupu."Sputtering" inarejelea hali ambayo chembe zilizochajiwa hushambulia uso thabiti (lengo) na kutengeneza atomi au molekuli dhabiti kutoka kwenye uso.Chembe nyingi zinazotolewa ziko katika hali ya atomiki, ambayo mara nyingi huitwa atomi zilizopigwa.Chembe zilizotapakaa zinazotumiwa kushambulia lengo zinaweza kuwa elektroni, ayoni au chembe zisizoegemea upande wowote.Kwa sababu ayoni ni rahisi kuharakisha chini ya uwanja wa umeme ili kupata nishati ya kinetic inayohitajika, nyingi hutumia ayoni kama chembe za mabomu.Mchakato wa kunyunyiza unategemea kutokwa kwa mwanga, ambayo ni, ioni za kunyunyizia hutoka kwa kutokwa kwa gesi.Teknolojia tofauti za kunyunyiza hutumia njia tofauti za kutokwa kwa mwanga.DC diode sputtering hutumia kutokwa kwa mwanga wa DC;Triode sputtering ni kutokwa kwa mwanga unaoungwa mkono na cathode ya moto;RF sputtering hutumia kutokwa kwa mwanga wa RF;Kunyunyiza kwa sumaku ni utokaji wa mwanga unaodhibitiwa na uwanja wa sumaku wa annular.

Ikilinganishwa na mipako ya uvukizi wa utupu, mipako ya sputtering ina faida nyingi.Kwa mfano, dutu yoyote inaweza kumwagika, hasa vipengele na misombo yenye kiwango cha juu cha kuyeyuka na shinikizo la chini la mvuke;Kushikamana kati ya filamu iliyopigwa na substrate ni nzuri;Uzani wa juu wa filamu;Unene wa filamu unaweza kudhibitiwa na kurudiwa ni nzuri.Hasara ni kwamba vifaa ni ngumu na vinahitaji vifaa vya juu-voltage.

Kwa kuongeza, mchanganyiko wa njia ya uvukizi na njia ya sputtering ni ion plating.Faida za njia hii ni kwamba filamu iliyopatikana ina mshikamano mkali na substrate, kiwango cha juu cha utuaji na msongamano mkubwa wa filamu.