Aina za Malengo ya Magnetron Sputtering

Kwa kuongezeka kwa mahitaji ya soko, aina zaidi na zaidi za malengo ya sputtering husasishwa kila mara.Baadhi wanajulikana na wengine hawajui kwa wateja.Sasa, tungependa kushiriki nawe ni aina gani za malengo ya magnetron sputtering.

Lengo la kunyunyiza lina aina zifuatazo: shabaha ya mipako ya chuma, shabaha ya kupaka aloi, shabaha ya kupaka rangi ya kauri, shabaha ya kumwaga kauri ya kauri, shabaha ya kumwaga kauri ya CARBIDE, shabaha ya kupaka rangi ya kauri ya floridi, shabaha ya kupaka rangi ya nitridi kauri, shabaha ya kauri ya oksidi, shaba ya kauri ya selenidi. , shabaha ya kunyunyiza kauri ya silika, shabaha ya kupaka kauri ya sulfidi, shabaha ya kunyunyiza kauri ya telluride, shabaha nyinginezo za kauri, shabaha ya kauri ya oksidi ya Chromium iliyo na doped (CR SiO), shabaha ya indium phosfidi (INP), lengwa ya arsenidi ya risasi (pbas), shabaha ya indium arsenide (InAs )

Unyunyizaji wa sumaku kwa ujumla umegawanywa katika aina mbili: utiririshaji wa DC na utiririshaji wa RF.Kanuni ya vifaa vya sputtering vya DC ni rahisi, na kiwango chake pia ni haraka wakati wa kupiga chuma.RF sputtering hutumiwa sana.Mbali na kusambaza data tendaji, inaweza pia kusambaza data isiyo ya conductive.Wakati huo huo, shabaha ya kunyunyiza pia hufanya utepetevu tendaji ili kuandaa data kiwanja kama vile oksidi, nitridi na carbidi.Ikiwa frequency ya RF itaongezeka, itakuwa microwave plasma sputtering.Kwa sasa, unyunyizaji wa plasma ya microwave ya elektroni (ECR) hutumiwa kwa kawaida.