Polysilicon ni nyenzo muhimu inayolengwa ya sputtering.Kutumia njia ya magnetron sputtering kuandaa SiO2 na filamu nyingine nyembamba inaweza kufanya nyenzo ya tumbo kuwa na upinzani bora wa macho, dielectric na kutu, ambayo hutumiwa sana katika skrini ya kugusa, macho na viwanda vingine.
Mchakato wa kutupa fuwele ndefu ni kutambua uimarishaji wa mwelekeo wa silicon ya kioevu kutoka chini hadi juu hatua kwa hatua kwa kudhibiti kwa usahihi hali ya joto ya heater kwenye uwanja wa moto wa tanuru ya ingot na uharibifu wa joto wa nyenzo za insulation za mafuta. kasi ya fuwele ndefu ni 0.8~1.2cm/h.Wakati huo huo, katika mchakato wa uimarishaji wa mwelekeo, athari ya mgawanyiko wa vipengele vya chuma katika vifaa vya silicon inaweza kupatikana, vipengele vingi vya chuma vinaweza kusafishwa, na muundo wa nafaka wa silicon ya polycrystalline unaweza kuundwa.
Polisilikoni ya kutupwa pia inahitaji kuingizwa kimakusudi katika mchakato wa uzalishaji, ili kubadilisha mkusanyiko wa uchafu unaokubalika katika kuyeyuka kwa silicon.Dopant kuu ya polysilicon ya aina ya p katika sekta hiyo ni aloi kuu ya silicon boroni, ambayo maudhui ya boroni ni karibu 0.025%.Kiasi cha doping imedhamiriwa na upinzani unaolenga wa kaki ya silicon.Ustahimilivu bora zaidi ni 0.02 ~ 0.05 Ω • cm, na ukolezi unaolingana wa boroni ni takriban 2 × 1014cm-3. Hata hivyo, mgawo wa kutenganisha boroni katika silicon ni 0.8, ambayo itaonyesha athari fulani ya utengano katika mchakato wa uimarishaji wa mwelekeo, ambayo ni, kipengele cha boroni kinasambazwa katika gradient katika mwelekeo wa wima wa ingot, na resistivity hupungua hatua kwa hatua kutoka chini hadi juu ya ingot.
Muda wa kutuma: Jul-26-2022