Vipande vya Silicide ya Tungsten

Silicide ya Tungsten WSi2 hutumika kama nyenzo ya mshtuko wa umeme katika maikrolektroniki, kunyoosha kwenye waya za polysilicon, mipako ya kuzuia oksidi na mipako ya waya.Silicide ya Tungsten hutumika kama nyenzo ya mguso katika elektroniki ndogo, na upinzani wa 60-80μΩcm.Inaundwa kwa 1000 ° C.Kawaida hutumiwa kama shunt kwa mistari ya polysilicon ili kuongeza upitishaji wake na kuongeza kasi ya ishara.Safu ya Silicide ya tungsten inaweza kutayarishwa kwa uwekaji wa mvuke wa kemikali, kama vile uwekaji wa mvuke.Tumia monosilane au dichlorosilane na tungsten hexafluoride kama gesi ya malighafi.Filamu iliyowekwa si ya stoichiometric na inahitaji annealing ili kubadilishwa kuwa fomu ya stoichiometric ya conductive zaidi.

Silicide ya Tungsten inaweza kuchukua nafasi ya filamu ya awali ya tungsten.Silicide ya Tungsten pia hutumiwa kama safu ya kizuizi kati ya silicon na metali zingine.

Silicide ya Tungsten pia ni ya thamani sana katika mifumo ya microelectromechanical, kati ya ambayo silicide ya tungsten hutumiwa hasa kama filamu nyembamba kwa ajili ya utengenezaji wa microcircuits.Kwa kusudi hili, filamu ya silicide ya tungsten inaweza kuwa plasma-etched kwa kutumia, kwa mfano, silicide.

Vifaa Maalum vya Tajiri vinataalam katika Utengenezaji wa Lengo la Kunyunyiza na vinaweza kutoa Silicide ya Tungsten.vipandekulingana na vipimo vya Wateja.Kwa habari zaidi, tafadhali wasiliana nasi.